Mechanisms of positive charge generation in buried oxide of UNIBOND and separation by implanted oxygen silicon-on-insulator structures during high-field electron injection

Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України

Пошук

Ви тут: Головна

Наукові відділи

Publications

dep15

dep-15-before

Mechanisms of positive charge generation in buried oxide of UNIBOND and separation by implanted oxygen silicon-on-insulator structures during high-field electron injection

Деталі: Перегляди: 6747

Nazarov A.N., Kilchytska V., Houk Yu., and Ballutaud D., J. Appl. Phys., 94, 1823-1832 (2003)

Пошук

Навігаційний перегляд пошуку

Навігація