Деталі

Перегляди: 3009

Вакуумна система для нанесення металічних плівок магнетронним розпиленням

Призначення:

Отримання плівок практично будь-яких металів без порушення стехіометричного складу.

Технічні характеристики:

• Можливості для нанесення багатошарових покриттів – 3 джерела напилення різних металів.
• Високі швидкості напилення:  v = 1-30 нм/с.
• Можливість підігріву підкладинок – температура столика для нагріву об’єктів: T = 25-1100 0С.

• Мішень кругла, діаметром (40-1) мм, товщина матеріалу, що розпилюється: d = 1-3 мм.
• Максимальна площа напилення діаметром: <= 70 мм.
• Максимальна товщина плівки: d ≤1 мкм.

Контакти: Україна, Інститут фізики напівпровідників НАНУ, Ця електронна адреса захищена від спам-ботів. вам потрібно увімкнути JavaScript, щоб побачити її.