Влияние ВЧ плазменной обработки на перенос и накопление заряда в слоях двуокиси кремния структур Al-полиSi-SiO2-Si

V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics NAS of Ukraine

National Academy of Sciences of Ukraine

Search

Details: Hits: 6670

А.Н. Назаров, С.Н. Михайлов, В.С. Лысенко, А.С. Ткаченко и др.// Микроэлектроника, т.23, вып.3, C.39-46 (1994)