Влияние температуры вакуумного отжига на край фундаментального поглощения и структурную релаксацию пленок a-SiC:H

V. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics of National Academy of Sciences of Ukraine

You are here: Home

А.В. Васин, А.В. Русавский, А.Н. Назаров, В.С. Лысенко и др.// ФТП, т.39, №5, С.602-607 (2005)

Nav view search