Механизмы формирования контактного сопротивления в омических контактах с большой плотностью дислокацій.

V. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics of National Academy of Sciences of Ukraine

You are here: Home

А.В. Саченко, А.Е. Беляев, Н.С. Болтовец, Р.В. Конакова, В.Н. Шеремет//Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Т.48, С. 45-62 (2013)

Nav view search